一般情況下,使用低加速電壓,能夠更好地觀察表面的微細結(jié)構(gòu)。使用高加速電壓,電子束在樣品中的擴散區(qū)域增大,從樣品內(nèi)部產(chǎn)生的不必要的信號(如背散射電子)會掩蓋樣品表面的微結(jié)構(gòu)。特別是在觀察密度低的物質(zhì)時,以低加速電壓為好。
圖1 入射電子的擴展(根據(jù)Duncumb和Shields的理論) 圖2 加速電壓的效果
(a)30kV (b)5kV
圖4 樣品:噴金粒子,放大倍數(shù):×50,000,如圖所示使用30kV的電壓,圖像的清晰度和分辨率高。
(a)30kV (b)5kV
圖5 樣品:濾紙,放大倍數(shù):×900,如圖所示使用5kV的電壓,入射電子的擴散區(qū)域較淺、樣品表面的結(jié)構(gòu)顯露得清楚。
(a)30kV (b)8kV
(a)30kV (b)8kV
圖7 樣品:鋁合金(Zn MAP圖像),放大倍數(shù):×1500,如圖所示使用高加速電壓時由于入射電子的擴散區(qū)域增深,導致元素分布不清楚。
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