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簡要描述:M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng):聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)(polymer pen lithography)聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列,采用蘸筆光刻DPN的方式,將待沉積的材料(墨水)浸蘸在筆尖陣列上,筆尖可控的與基底表面接觸,從而在基底表面批量成型所需圖案,加工納米微米圖案無需光掩膜,且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率。
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M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)主要特點(diǎn):
- 高分辨率,可達(dá)低于100nm的分辨率;
- 高通量模式,可達(dá)160000針尖輸出制作結(jié)構(gòu);
- TERA-FAB M系列可制作厘米級材料尺寸;
- 無需掩模,即時性改變輸出機(jī)構(gòu),可廣泛適應(yīng)軟質(zhì)和硬質(zhì)材料;
- 軟硬件友好,非專業(yè)人士可在幾小時培訓(xùn)后,熟練使用。
A)一張4英寸的PPL陣列,有1100萬支筆尖。
B)陣列內(nèi)納米尺度彈性材料*的掃描電子顯微照片及內(nèi)嵌圖像;
C)由PPL技術(shù)打印的多種蛋白示意圖。各針尖陣列蘸上不同的打印墨水(蛋白);
D)熒光光學(xué)顯微圖的結(jié)果,PPL合成了多路熒光標(biāo)記蛋白的圖案。
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